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一种倒装发光二极管芯片及其制备方法 

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申请/专利权人:江西兆驰半导体有限公司

摘要:本发明涉及半导体器件技术领域,尤其涉及一种倒装发光二极管芯片及其制备方法,至少包括衬底及依次层叠在衬底上的N型半导体层、有源发光层、P型半导体层,P型半导体层上层叠有电流扩展层,P型半导体层与电流扩展层之间设有P型电极,N型半导体层设有N型半导体导电台阶,N型半导体导电台阶上设有N型电极;P型电极包括沿芯片生长方向依次层叠的反射层、保护层、导电层、过刻蚀层、欧姆接触层,反射层为Al层,保护层为Ni层与Pt层或Ti层与Pt层周期性层叠的结构,导电层为Au层或者Cu层,过刻蚀层为Ni层、Ti层、Pt层中任意一种,欧姆接触层为Cr层或Ni层。本发明能够有效提高LED芯片的发光亮度,降低其工作电压。

主权项:1.一种倒装发光二极管芯片,至少包括衬底及依次层叠在所述衬底上的N型半导体层、有源发光层、P型半导体层,其特征在于,所述P型半导体层上层叠有电流扩展层,所述P型半导体层与所述电流扩展层之间设有P型电极,所述N型半导体层上设有N型半导体导电台阶,所述N型半导体导电台阶上设有N型电极;所述P型电极包括沿芯片生长方向依次层叠的反射层、保护层、导电层、过刻蚀层、欧姆接触层,其中,所述反射层为Al层,所述保护层为Ni层与Pt层或Ti层与Pt层周期性层叠的结构,所述导电层为Au层或者Cu层,所述过刻蚀层为Ni层、Ti层、Pt层中任意一种,所述欧姆接触层为Cr层或Ni层;所述反射层的厚度介于1000Å-3000Å,所述保护层的Ni层与Pt层或Ti层与Pt层的厚度均介于400Å-4000Å,所述导电层的厚度介于5000Å-50000Å,所述过刻蚀层的厚度介于500Å-3000Å,所述欧姆接触层的厚度介于20Å-200Å;所述电流扩展层边缘距离所述P型半导体层边缘的距离在3μm-10μm之间。

全文数据:

权利要求:

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