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申请/专利权人：元平台技术有限公司
申请日：2023-10-09
公开（公告）日：2024-03-29
公开（公告）号：CN117774409A
主分类号：B29D11/00
分类号：B29D11/00;G02B3/00;G02B5/30;G02B27/28;B29C65/48;B29C65/78
优先权：["20220929 US 17/936,493"]
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.04.16#实质审查的生效;2024.03.29#公开
摘要：所公开的计算机实现的方法可以包括：将反射偏振器阵列耦合到后光学衬底的后表面；将四分之一波片阵列耦合到该后光学衬底的前表面，使得该四分之一波片阵列与该反射偏振器阵列对准；用至少一个初始模具模制该后光学衬底，其中，该至少一个初始模具限定了初始光学元件表面阵列，该初始光学元件表面阵列与该四分之一波片阵列对准；以及在前双片模具与后双片模具之间双片热成型该后光学衬底和该前光学衬底，其中，该前双片模具限定了前光学元件表面阵列，该后模具限定了后光学元件表面阵列。还公开了各种其他方法、装置和系统。
主权项：1.一种方法，所述方法包括：将反射偏振器阵列耦合到后光学衬底的后表面；将四分之一波片阵列耦合到所述后光学衬底的前表面，使得所述四分之一波片阵列与所述反射偏振器阵列对准；用至少一个初始模具模制所述后光学衬底，其中，所述至少一个初始模具限定了初始光学元件表面阵列，所述初始光学元件表面阵列与所述四分之一波片阵列对准；以及在前双片模具与后双片模具之间双片热成型所述后光学衬底和前光学衬底，其中，所述前双片模具限定了前光学元件表面阵列，所述后双片模具限定了后光学元件表面阵列。
全文数据：
权利要求：
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