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申请/专利权人：拓自达电线株式会社
申请日：2022-10-07
公开（公告）日：2024-06-18
公开（公告）号：CN118215990A
主分类号：H01L21/60
分类号：H01L21/60;C22C5/06
优先权：["20211213 JP 2021-201999"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.18#公开
摘要：本发明的接合线中，In的含量为0.005质量％以上且2.0质量％以下，选自Au和Pd中的1种或2种元素的含量的合计为0.005质量％以上且2.0质量％以下，选自Bi和Cu中的1种或2种以上元素的含量的合计为5质量ppm以上且500质量ppm以下，选自Ca、Mg、Ge、Y、Nd、Sm、Gd、La和Ce中的1种或2种以上元素的含量的合计为0质量ppm以上且500质量ppm以下，其余由Ag构成。由此，长期可靠性优异，可使FAB与电极接触而压扁时的形状成为良好的圆形。
主权项：1.一种接合线，其中，In的含量为0.005质量％～2.0质量％，选自Au和Pd中的1种或2种元素的含量的合计为0.005质量％～2.0质量％，选自Bi和Cu中的1种或2种以上元素的含量的合计为5质量ppm～500质量ppm，选自Ca、Mg、Ge、Y、Nd、Sm、Gd、La和Ce中的1种或2种以上元素的含量的合计为0质量ppm～500质量ppm，其余由Ag构成。
全文数据：
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