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申请/专利权人：应用材料公司
摘要：化学机械抛光系统包括：压板，用以保持抛光垫；载体头，用以将基板保持抵靠抛光垫的抛光表面；以及控制器。抛光垫具有抛光控制沟槽。载体通过第一致动器而可跨抛光垫横向移动，并且通过第二致动器而可旋转。控制器使载体头的横向振动与载体头的旋转同步，使得在载体头的多个连续振动上，使得当基板的边缘部分的第一角度幅面在围绕载体头的旋转轴线的方位角位置处时，第一角度幅面覆盖抛光表面，并且当基板的边缘部分的第二角度幅面在方位角位置处时，第二角度幅面覆盖抛光控制沟槽。
主权项：1.一种化学机械抛光系统，包括：能旋转的压板，所述能旋转的压板用以保持抛光垫，所述压板通过电机而能旋转，所述抛光垫具有抛光表面和与所述抛光垫的旋转轴线同心的抛光控制沟槽；能旋转的载体头，所述能旋转的载体头用以在抛光工艺期间将基板保持抵靠所述抛光垫的所述抛光表面，所述载体头通过第一致动器而能跨所述抛光垫横向移动，并且通过第二致动器而能旋转；控制器，所述控制器配置成控制所述第一致动器和所述第二致动器，以使所述载体头的横向振动与所述载体头的旋转同步，使得在所述载体头的多个连续的振动上，使得当所述基板的边缘部分的第一角度幅面在围绕所述载体头的旋转轴线的方位角位置处时，所述第一角度幅面覆盖所述抛光表面，并且当所述基板的所述边缘部分的第二角度幅面在所述方位角位置处时，第二角度幅面覆盖所述抛光控制沟槽。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 在抛光垫中使用沟槽的晶片边缘不对称校正
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