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【发明公布】一种专用于半导体器件的PLD镀膜装置_无锡邑文电子科技有限公司_202310430531.3 

申请/专利权人:无锡邑文电子科技有限公司

申请日:2023-04-21

公开(公告)日:2023-05-26

公开(公告)号:CN116162907A

主分类号:C23C14/28

分类号:C23C14/28;C23C14/50;C23C14/54;H01L21/67

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.08.01#授权;2023.06.13#实质审查的生效;2023.05.26#公开

摘要:本发明属于专用于半导体器件的PLD镀膜技术领域,具体涉及一种专用于半导体器件的PLD镀膜装置,包括靶材安装机构、激光发射机构和镀膜基底机构,靶材安装机构包括:具有若干开孔的靶材基座,用于安装靶材的若干靶材安装座,膜厚仪;靶材安装机构还包括:若干靶材角度调节器,其与若干靶材安装座一一对应,且其第一端转动连接在对应的靶材安装座上,其第二端铰接在靶材基座上;若干柔性连接器,其与若干靶材安装座一一对应,且其一端连接在所述靶材安装座上,另一端连接在第二驱动机构上。本发明能够实现单独精密调节单个靶材的溅射角度,保证了每次溅射的一致性,并能实时根据检测的膜厚调整靶材的溅射角度,利于提升沉积膜层厚度均匀性。

主权项:1.一种专用于半导体器件的PLD镀膜装置,包括靶材安装机构、激光发射机构和镀膜基底机构,所述靶材安装机构包括:具有若干开孔的靶材基座,驱动靶材基座公转的第一驱动机构,用于安装靶材的若干靶材安装座,驱动靶材安装座自转的第二驱动机构,若干靶材安装座分别对应安装在若干开孔处,其特征在于,所述专用于半导体器件的PLD镀膜装置还包括:膜厚仪,其检测端靠近所述镀膜基底机构的镀膜基底设置;且所述靶材安装机构还包括:若干靶材角度调节器,其与若干靶材安装座一一对应,且其第一端转动连接在对应的靶材安装座上,其第二端铰接在所述靶材基座上;若干柔性连接器,其与若干靶材安装座一一对应,且其一端连接在所述靶材安装座上,另一端连接在所述第二驱动机构上。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 无锡邑文电子科技有限公司 一种专用于半导体器件的PLD镀膜装置

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